अर्धचालक अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन की सफाई प्रभाव के बारे में कैसे?

साधारण सफाई के तरीके आम तौर पर छेद तक नहीं पहुंच सकते हैं, और प्रतिक्रिया उत्पाद और छेद में कोर सामग्री के अन्य प्रदूषक पोस्ट-प्रक्रिया में दोहराए गए प्रदूषण का उत्पादन करेंगे। कोई फर्क नहीं पड़ता कि कार्बनिक विलायक का उपयोग करना या तरल सफाई की सफाई करना नए प्रदूषण स्रोतों को पेश करना आसान है, लेकिन अल्ट्रासोनिक सफाई तकनीक का उपयोग करके कोई दोहराया प्रदूषण प्राप्त नहीं किया जा सकता है, और एमसीपी छेद प्रभाव में गहरा हो सकता है। विभिन्न सामग्रियों और एपर्चर के साथ एमसीपी के लिए, समायोज्य आवृत्ति और ध्वनि तीव्रता के साथ अल्ट्रासोनिक तरंग का उपयोग वास्तविक प्रक्रिया मापदंडों को निर्धारित करने के लिए प्रयोग के लिए किया जाना चाहिए। ताकना आकार 6-12 μmMCP की सफाई के लिए, जब मध्यम तरल पानी और इथेनॉल है, 1/3 W / cm2 के बारे में cavitation दहलीज के साथ अल्ट्रासोनिक तरंग, ध्वनि तीव्रता 10 ~ 20 W / cm2 और आवृत्ति 20 ~ 120 kHz सफाई के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है। तालिका 1 विभिन्न आवृत्तियों पर अल्ट्रासोनिक सफाई के बाद एक ही अनुभाग में विभिन्न प्लेट संख्याओं के साथ एमसीपी के स्पष्ट और विद्युत प्रदर्शन परीक्षण परिणामों से पता चलता है। यह पता लगाने के परिणामों से देखा जा सकता है कि 1μm से कम छोटे कण प्रदूषकों के लिए, 40 kHz से अधिक की अल्ट्रासोनिक आवृत्ति का उपयोग सफाई के लिए किया जाना चाहिए।